Authors B. J. Cho and C. K. Kim 
Journal/Conference J. Kor. Appl. Phys. 
Date Nov. 1989 
volume vol. 2 
Number no. 4 
Page pp. 407 

B. J. Cho and C. K. Kim, "Rapid thermal annealing of high dose BF2 implanted silicon", J. Kor. Appl. Phys., vol. 2, no. 4, pp. 407, Nov. 1989.