Authors S. A. Jang, Y. B. Kim, B. J. Cho, and J. C. Kim 
Journal/Conference Jpn. J. Appl. Phys. 
Date Mar. 1997. 
volume vol. 36 
Number no. 3b 
Page pp. 1433-1438 

S. A. Jang, Y. B. Kim, B. J. Cho, and J. C. Kim, "Evaluation of double spacer local oxidation of silicon (LOCOS) isolation for sub-quarter micron design rule", Jpn. J. Appl. Phys., vol. 36, no. 3b, pp. 1433-1438, Mar. 1997.