Authors B. J. Cho, L. H. Ko, Y. A. Nga, and L. H. Chan 
Journal/Conference J. Electrochem. Soc. 
Date Nov. 1999. 
volume vol. 146 
Number no. 11 
Page pp. 4259-4262 

B. J. Cho, L. H. Ko, Y. A. Nga, and L. H. Chan, "Impact of nitrogen implantation into polysilicon followed by drive-in process on gate oxide integrity", J. Electrochem. Soc., vol. 146, no. 11, pp. 4259-4262, Nov. 1999.