Authors S. J. Kim, B. J. Cho, P. F. Chong, E. F. Chor, C. H. Ang, C. H. Ling, M. S. Joo, and I. S. Yeo 
Journal/Conference Microelectron. Rel. 
Date Oct. 2000. 
volume vol. 40 
Number no. 8-10 
Page pp. 1609-1613 

S. J. Kim, B. J. Cho, P. F. Chong, E. F. Chor, C. H. Ang, C. H. Ling, M. S. Joo, and I. S. Yeo, "Does short wavelength lithography process degrade the integrity of thin gate oxide?", Microelectron. Rel., vol. 40, no. 8-10, pp. 1609-1613, Oct. 2000.