Authors B. J. Cho, S. J. Kim, C. H. Ang, C. H. Ling, M. S. Joo, and I. S. Yeo 
Journal/Conference Jpn. J. Appl. Phys. 
Date Apr. 2001. 
volume vol. 40 
Number no. 4B 
Page pp. 2819-2822 

B. J. Cho, S. J. Kim, C. H. Ang, C. H. Ling, M. S. Joo, and I. S. Yeo, "Reliability of thin gate oxides irradiated under X-ray lithography conditions", Jpn. J. Appl. Phys., vol. 40, no. 4B, pp. 2819-2822, Apr. 2001.>