Authors S. J. Kim, B. J. Cho, M. F. Li, Albert Chin, and D. L. Kwong 
Journal/Conference EEE Electron Device Lett. 
Date Jun. 2003. 
volume vol. 24 
Number no. 6 
Page pp. 387 

S. J. Kim, B. J. Cho, M. F. Li, Albert Chin, and D. L. Kwong, “PVD HfO2 for high precision MIM capacitor applications”, IEEE Electron Device Lett., vol. 24, no. 6, p. 387, Jun. 2003.