Authors X. Chen, Y. Lu, L. J. Tang, Y. H. Wu, B. J. Cho, S. J. Xu, J. R. Dong, and W. D. Song 
Journal/Conference J. Appl. Phys. 
Date Jan. 2005. 
volume vol. 97 
Number no. 1 
Page pp. 1 

X. Chen, Y. Lu, L. J. Tang, Y. H. Wu, B. J. Cho, S. J. Xu, J. R. Dong, and W. D. Song, "Annealing and oxidation of silicon oxide films prepared by plasma-enhanced chemical vapor depositioin," J. Appl. Phys., vol. 97, no. 1, p. 1 Jan. 2005.