Authors W. He, D. S. H. Chan, S. J. Kim, Y. S. Kim, S. T. Kim, and B. J. Cho 
Journal/Conference J. Electrochem. Soc. 
Date Aug. 2008. 
volume vol. 155 
Number no. 10 
Page pp. G189-G193 

W. He, D. S. H. Chan, S. J. Kim, Y. S. Kim, S. T. Kim, and B. J. Cho, “Process and Material Properties of HfLaOx Prepared by Atomic Layer Deposition”, J. Electrochem. Soc., vol. 155, no. 10, pp. G189-G193, Aug. 2008.