Authors J. J. Lee, Y. S. Shin, J. Y. Choi, H S. Kim, S. J. Hyun, S. Y. Choi, B. J. Cho, and S. H. Lee 
Journal/Conference Phys. Status Solidi RRL 6 
Date Nov. 2012. 
volume No. 11 
Page pp. 439-441 

J. J. Lee, Y. S. Shin, J. Y. Choi, H S. Kim, S. J. Hyun, S. Y. Choi, B. J. Cho, and S. H. Lee, "Reduction of charge trapping in HfO2 film on a Ge substrate by trimethylaluminum pretreatment", Phys. Status Solidi RRL 6, No. 11, pp. 439-441, Nov. 2012.